На технической конференции, которая состоится в Санта-Кларе (штат Калифорния), корпорация IBM собирается рассказать о новой технологии создания микросхем.

В системе нового поколения для нанесения схем на полупроводниковые пластины используются не световые волны, а электронные лучи. Электронами можно рисовать гораздо более тонкие дорожки, чем светом, что, по словам представителей IBM, решает некоторые проблемы существующих производственных процессов, физически ограничивающих дальнейшую миниатюризацию микросхем. "Это позволяет индустрии и дальше уменьшать размеры кристаллов, увеличивая их быстродействие и экономичность", - сказал Бийан Дэвери (Bijan Davari), вице-президент IBM и руководитель центра исследований и разработок в области полупроводников.

Эту новую технологию IBM разрабатывает совместно с японским фотогигантом Nikon. Новая система, получившая название Prevail (Projection Reduction Exposure With Variable Axis Immersion Lenses), будет применяться при создании микросхем для самых разных продуктов - от карманных устройств до суперкомпьютеров. По словам Дэвери, производственное оборудование на базе этой технологии появится после 2003 года.

Проект IBM и Nikon конкурирует с системой SCALPEL, которую компания Lucent Technologies разрабатывает совместно с Applied Materials и ASM Lithography Holdings NV. Система SCALPEL, предназначенная для создания микросхем, также основана на использовании электронных лучей. По материалам ZDNet.