В конце апреля с. г. корпорация Intel официально открыла свой самый передовой опытный завод D1D. Выступая на торжественной церемонии, губернатор штата Орегон Тед Кулонгоски (Ted Kulongoski) назвал это событие "проблеском будущего".
В церемонии открытия приняли также участие вице- президент корпорации Intel, генеральный менеджер подразделения Technology and Manufacturing Group Сунлин Чжоу (Sunlin Chou), политические и общественные деятели, представители бизнеса.
Общая площадь завода D1D составляет 18 млн. кубических футов. Этого достаточно, чтобы разместить три авиалайнера "Боинг-747". На новом заводе стоимостью $2 млрд. будут разрабатываться технологии производства передовых логических микросхем, используемые в процессе создания высокопроизводительных процессоров Intel. На заводе будут вестись работы по переходу на 65-нанометровую технологию производства микропроцессоров.
Завод D1D начинает функционировать в качества опытно-конструкторского предприятия по разработке технологий производства микропроцессоров следующего поколения. Позднее, когда разработанные на этом предприятии технологии будут внедрены на других заводах Intel, D1D начнет работать как производственное предприятие.
В настоящее время большая часть микропроцессоров Intel выпускается по 0,13- микронной (130-нанометровой) технологии, однако уже в этом году корпорация намерена начать производство по 90-нанометровой технологии, которая будет реализована на заводе D1C в Ронлер Эйкрз. Разработанная специалистами Intel 90-нанометровая технология производства является первой технологией такого рода, предусматривающей применение напряженного кремния для повышения производительности и обеспечивающей уменьшение площади одной ячейки статической памяти всего до 1 квадратного микрона. Корпорация Intel адаптирует свои 90-нанометровые и более передовые технологии для производства не только микропроцессоров и наборов микросхем, но и коммуникационных устройств.
По материалам пресс-релиза корпорации Intel.
