Ведущие производители компьютерных чипов компании Intel, AMD и Motorola вместе с Виртуальной Национальной Лабораторией США (Virtual National Laboratory, VNL) ведут разработку нового литографического процесса, используемого при выращивании полупроводниковых кристаллов. Следует отметить, что в Виртуальную Национальную Лабораторию входят три национальных лаборатории Министерства энергетики США - Сандиа, Ливерморская им. Лоуренса и Ядерно-физическая лаборатория им. Лоуренса в Беркли.
В новом литографическом процессе используется излучение крайнего ультрафиолетового диапазона длин волн, что позволяет делать на полупроводниковом чипе элементы с поперечным размером менее 0,1 мкм, и, таким образом, уместить на одном кристалле больше транзисторов. По заявлению разработчиков, новая технология литографии позволит создать в 100 раз более мощные процессоры и в 100 раз более емкие чипы памяти, чем это возможно с современными технологиями выращивания полупроводников. Первые процессоры, созданные по этой технологии, будут работать с тактовой частотой порядка 10 ГГц. Напомним, что сейчас самые быстродействующие коммерческие чипы от Intel и AMD имеют тактовую частоту 1 ГГц.
Предполагается, что коммерческое производство с использованием технологии ультрафиолетовой литографии начнется в 2005 г. По материалам InfoArt News Agency.
