Ученые из Принстонского университета нашли новый способ продлить действие знаменитого закона Мура. Он, напомним, утверждает, что число элементов, входящих в состав одной микросхемы, удваивается каждые полтора года. Однако в последние годы стало очевидно, что традиционная фотолитографическая технология отживает свой век, поскольку с ее помощью невозможно изготовить интегральные схемы, размер элементов которых не превышал бы 100-130 нм.
В связи с этим в настоящее время производители чипов проявляют повышенный интерес к технологиям производства ИС, позволяющим преодолеть 100- нанометровый барьер. Разработка таких технологий ведется по нескольким направлениям. Среди них можно отметить как модификации традиционной фотолитографии, например, с использованием рентгеновского излучения, так и принципиально новые методы.
Исследователи из Принстонского университета выбрали второй путь. Впрочем, называть его принципиально новым не совсем правильно - в основу технологии положен принцип печати с использованием лазера, применяемый, в частности, для производства компакт-дисков. В результате, с помощью кварцевого "клише" и луча лазера удалось создать прототип чипа, размер элементов которого не превышает 10 нм, что в 10 раз меньше, чем в случае фотолитографии. Процесс печати занимает всего 250 наносекунд и заключается в облучении лазером кремниевой пластины, находящейся под клише. Под действием лазера клише нагревается, расплавляя кремний в местах расположения элементов схемы.
Кроме самого очевидного преимущества метода - уменьшения размера элементов ИС к его достоинствам стоит отнести меньшее по сравнению с фотолитографией время изготовление схемы, а кроме этого, ученые утверждают, что их способ производства чипов состоит из меньшего числа стадий и значительно дешевле традиционного, сообщает .Компьюлента".
